ساخت و اصلاح غشاهای نانوفیلتر ترکیبی(tfc) با خواص ضد انسداد بالا با استفاده از آکریلیک اسید و تابشuv

غشاهای فیلم نازک مرکب (tfc) از رایج ترین غشاها می باشند که کاربردهای گسترده ای دارند. یکی از روش های معمول برای تهیه غشاهای tfc فرایند پلیمریزاسیون بین سطحی می باشد. در این مطالعه، روش پلیمریزاسیون بین سطحی، با استفاده از tmc و pip به عنوان واکنش دهنده برای تهیه پلی پیپرازین آمید روی ساپورت اولترا فیلتر پلی اترسولفونی مورد استفاده قرار گرفت. تأثیر آکریلیک اسید به عنوان یک مونومر آبدوست در فاز آبی و تابش uv به عنوان یک عامل فیزیکی بر روی عملکرد و مورفولوژی غشای نانوفیلتر tfc مورد بررسی قرار گرفت. غلظت های مختلف ( 1، 5 و 10 درصد وزنی ) از آکریلیک اسید در فاز آبی و زمان تابش uv (30، 60 و 120 ثانیه) به منظور اصلاح غشای نانوفیلتر tfc انتخاب شدند. اصلاح لایه نازک به دو روش انجام شد: 1) اصلاح شدن همزمان با تشکیل لایه نازک 2) اصلاح شدن بعد از تشکیل لایه نازک (تکنیک غوطه ور سازی). دستگاه های اندازه گیری زاویه تماس آب، دستگاه atr – ir، میکروسکوپ الکترونی (sem)، میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) و دستگاه نانوفیلتراسیون برای مشخص کردن و بررسی خصوصیات غشا tfc آماده شده، مورد استفاده قرار گرفت. تصاویر sem و afm نشان داد که خصوصیات غشا لایه نازک تشکیل شده در حضور آکریلیک اسیدکاملاً متفاوت است. در حضور آکریلیک اسید به عنوان افزودنی و تابش uv خصوصیات سطح لایه نازک تغییر یافت. تصاویر afm یک لایه نازک متراکم و فشرده را برای لایه نازک حاوی افزودنی در مقایسه با بدون افزودنی نشان می دهد. نتایج نشان داد که روش اول، تکنیک بهتر و موثرتری برای اصلاح غشاهای نانوفیلتر tfc می باشد. در واقع در این روش توانستیم فاکتورهای شار عبوری، میزان پس دهی و خواص ضد انسداد را افزایش دهیم. به عبارت دیگر نشستن مواد آلی روی سطح غشا به طور قابل ملاحظه ای کاهش یافت.